产品优点：发泡孔隙均匀、不会产生霉菌、吸水率高、磨擦力强，超强亲肤性、绝对不掉屑、高效去除晶圆表面的污粒，不伤及晶圆表面。
适用范围：PVA清洗刷适用于半导体CMP高端制程之晶圆、硬盘、掩膜板、液晶显示器、电路板及高级光学玻璃等高洁净度产品之清洗制程(Suit for strict cleanout:Wafer, Tft Mask, Hard Disc, LCD, PCB…etc)。
我们致力于提供高品质的产品及不断改善生产工艺水平以调节完善不断发展的CMP制程。应CMP高端制程不断发展的需求，公司最新研发出专注针对清洗晶圆边缘及晶圆表面清洗无缝对接，具有良好效果且显著提高晶圆良品率的特殊型号PVA刷子JLK-TA30、JLK-TB30,从而实现高制程晶圆清洗达到无任何漏边清洗现象，大大提升晶圆清洗良品率。目前已使用该产品客户均反映使用效果良好，客户满意度非常高。
